檢索結果:共5筆資料 檢索策略: "Chen-Hao Wang".ecommittee (精準) and ckeyword.raw="常壓電漿噴射束"
個人化服務 :
排序:
每頁筆數:
已勾選0筆資料
1
本論文試以常壓電漿高聚能型噴嘴設計改善並利用其製備金屬奈米材料能力作為探討。探討分析內容主要是從高聚能型應用的研究,使常壓電漿在高聚能型噴嘴上能量分佈(物理溫度)與製備奈米金參數趨勢,並利用穿透式電…
2
化學氣相沉積(Chemical vapor deposition,CVD),為現在半導體製程薄膜階段主要方式,原因為優良的覆蓋率與可控制薄膜厚度,真空鍍膜的技術發展至今已經相當成熟,而本實驗將使用常…
3
4
無電鍍製程具有可產生複合鍍層、可用於導體與非導體基材、無須繁複的設備及 操作簡單等特性,廣泛運用於產業界中,進行無電鍍製程前需先以化學藥劑粗化基材 的方式,活化表面使後續銅晶種得以沉積於基材表面,其…
5
現今再生能源因受限於天候及地形等問題,使其發展受限,若能建構完善配套儲能系統,將可大幅增加其使用效益,而全釩液流電池為近期電池發展項目中可較穩定、高效率及大規模化之儲能,在此,針對全釩液流電池電流密…